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南科园区永续标竿-科技与ESG的完美结合
联咏科技于11 月26 日举办「台南研发中心大楼新建工程」开工典礼，这栋智慧节能研发大楼位于南科南路与南科二路的交汇的核心地段，共设地上七层和地下三层。未来，这座大楼将成为南科园区内科技创新永续发展的新地标！
IC 为灵感启发的研究大楼
「联咏科技台南研发中心」功能涵盖办公与研发实验场域，设计灵感源自公司核心产品—智能影像显示IC，体现芯片整合创新之美。内部空间设计以大型核心办公空间为主，搭配小型讨论区及创新会议空间，营造出能激发创意的高效工作场域。大楼外观采L型量体设计，有效提升空间使用效率；主立面逐层退缩并设置绿植露台，象征联咏科技不断向上的成长愿景。
多重认证的绿色建筑
联咏科技携手知名的九典联合建筑师事务所，将环境责任融入建筑设计，以达成LEED、WELL、智慧建筑、绿建筑、能效标章等多项认证为目标。建筑设计利用立面遮阳与空气导流设计，大幅降低能耗，节能效率达25%，屋顶并设置360kw太阳能板。年节电约200万度，减少1000公吨的碳排放，并采节水设计，全年可节省约1200公吨水资源。
关注员工福祉的友善环境
联咏科技注重员工的生活质量，为员工打造健康、高效且弹性的工作环境，办公层设有挑高两层楼的弹性交流空间，配备多样座位配置，以促进互动和灵活性，适应各种工作和休闲需求。大楼还设有员工餐厅、健身房、按摩室、医务室等福利设施，体现公司对员工福祉与ESG 永续发展的承诺。
「联咏科技台南研发中心」预计将于2027年第三季完工，未来可提供南科1,000个研发职位，年产值预估达300亿元，期待这座研发中心大楼将成为激发创新、促进合作与照顾员工福祉的核心场所，引领公司及其合作伙伴迈向未来；巩固联咏科技在全球半导体产业的领先地位，并推动科技与环境永续的和谐共生。
参考数据：https://youtu.be/BIkRuhQ9cYY
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